A311060 Aperçu des actions
LAT Co. fabrique et vend des semi-conducteurs et des équipements d'affichage. Plus de détails
Score flocon de neige | |
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Évaluation | 0/6 |
Croissance future | 0/6 |
Performances passées | 0/6 |
Santé financière | 0/6 |
Dividendes | 0/6 |
LAT Co.,Ltd. Concurrents
Historique des prix et performances
Historique des cours de bourse | |
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Prix actuel de l'action | ₩4,485.00 |
Plus haut sur 52 semaines | ₩6,090.00 |
Plus bas sur 52 semaines | ₩3,000.00 |
Bêta | 0 |
1Variation sur 1 mois | -10.12% |
Variation sur 3 mois | -8.47% |
Variation sur 1 an | 12.13% |
3Variation sur 3 ans | 99.33% |
Variation sur 5 ans | 108.60% |
Évolution depuis l'introduction en bourse | 127.09% |
Nouvelles et mises à jour récentes
Recent updates
Rendement pour les actionnaires
A311060 | KR Semiconductor | KR Marché | |
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7D | -7.9% | -10.0% | -2.8% |
1Y | 12.1% | 7.0% | -3.4% |
Rendement vs Industrie: A311060 a dépassé le secteur KR Semiconductor qui a rapporté 7 % au cours de l'année écoulée.
Rendement vs marché: A311060 a dépassé le marché KR qui a rapporté -3.4 % au cours de l'année écoulée.
Volatilité des prix
A311060 volatility | |
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A311060 Average Weekly Movement | 8.4% |
Semiconductor Industry Average Movement | 6.7% |
Market Average Movement | 5.7% |
10% most volatile stocks in KR Market | 11.5% |
10% least volatile stocks in KR Market | 2.7% |
Cours de l'action stable: Le cours de l'action de A311060 a été volatil au cours des 3 derniers mois.
Volatilité au fil du temps: La volatilité hebdomadaire de A311060 ( 8% ) est restée stable au cours de l'année écoulée, mais reste supérieure à 75 % des actions de KR.
À propos de l'entreprise
Fondée | Salariés | PDG | Site web |
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2014 | n/a | Heung-Hwan Kim | www.latplasma.com |
LAT Co. fabrique et vend des équipements pour semi-conducteurs et écrans. Les produits de la société comprennent des équipements de dépôt sous vide, notamment des systèmes de pulvérisation magnétron, des systèmes de pulvérisation, des systèmes d'évaporation thermique, des images de systèmes d'évaporation thermique et par faisceau d'électrons, des systèmes d'évaporation par faisceau d'électrons, des images de systèmes de dépôt chimique en phase vapeur, des systèmes de dépôt chimique en phase vapeur à couplage inductif, des systèmes de dépôt chimique en phase vapeur améliorés par plasma et des systèmes de dépôt chimique en phase vapeur à couplage thermique. Elle propose également des systèmes de traitement thermique, tels que des systèmes de recuit et de traitement thermique rapide ; des systèmes de gravure comprenant des systèmes RIE et ICP-RIE ; des dispositifs de convergence, tels que des systèmes de pulvérisation en ligne, de cluster, de double verrouillage de charge et de dépôt physique en phase vapeur ; et d'autres dispositifs, y compris des systèmes de traitement des plasmas, de formage de graphène et de RTP en extérieur.
LAT Co.,Ltd. Résumé des fondamentaux
A311060 statistiques fondamentales | |
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Capitalisation boursière | ₩22.91b |
Bénéfices(TTM) | ₩0 |
Recettes(TTM) | n/a |
n/a
Ratio P/En/a
Ratio P/SLe site A311060 est-il surévalué ?
Voir Juste valeur et analyse de l'évaluationBénéfices et recettes
A311060 compte de résultat (TTM) | |
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Recettes | ₩0 |
Coût des recettes | ₩0 |
Marge brute | ₩0 |
Autres dépenses | ₩0 |
Les revenus | ₩0 |
Derniers bénéfices déclarés
s/o
Prochaine date de publication des résultats
s/o
Résultat par action (EPS) | 0 |
Marge brute | 0.00% |
Marge bénéficiaire nette | 0.00% |
Ratio dettes/capitaux propres | 0.0% |
Quelles ont été les performances à long terme de A311060?
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