Lam Research BOVESPA:L1RC34 Rapport sur les actions
Dernier prix
R$9.41
Capitalisation boursière
R$538.1b
7D
-12.0%
1Y
37.0%
Mise à jour
20 Oct, 2024
Données
Finances de l'entreprise +
Lam Research Corporation
BOVESPA:L1RC34 Rapport sur les actions
Capitalisation boursière : R$538.1b
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L1RC34 Aperçu des actions
Lam Research Corporation conçoit, fabrique, commercialise, remet à neuf et entretient des équipements de traitement des semi-conducteurs utilisés dans la fabrication de circuits intégrés.
Résumé des plus hauts, des changements et des baisses de prix pour Lam Research
Historique des cours de bourse
Prix actuel de l'action
US$9.41
Plus haut sur 52 semaines
US$14.29
Plus bas sur 52 semaines
US$6.62
Bêta
1.48
1Variation sur 1 mois
-3.00%
Variation sur 3 mois
-23.69%
Variation sur 1 an
37.03%
3Variation sur 3 ans
32.48%
Variation sur 5 ans
n/a
Évolution depuis l'introduction en bourse
233.90%
Nouvelles et mises à jour récentes
Recent updates
Rendement pour les actionnaires
L1RC34
BR Semiconductor
BR Marché
7D
-12.0%
0%
0%
1Y
37.0%
0%
0%
Rendement vs Industrie: L1RC34 a sous-performé le secteur BR Semiconductor qui a rapporté 61.9 % au cours de l'année écoulée.
Rendement vs marché: L1RC34 a dépassé le marché BR qui a rapporté 10.5 % au cours de l'année écoulée.
Volatilité des prix
Is L1RC34's price volatile compared to industry and market?
L1RC34 volatility
L1RC34 Average Weekly Movement
8.2%
Semiconductor Industry Average Movement
0%
Market Average Movement
0%
10% most volatile stocks in BR Market
0%
10% least volatile stocks in BR Market
0%
Cours de l'action stable: Le cours de l'action de L1RC34 a été volatil au cours des 3 derniers mois.
Volatilité au fil du temps: La volatilité hebdomadaire de L1RC34 ( 8% ) est restée stable au cours de l'année écoulée, mais reste supérieure à 75 % des actions de BR.
Lam Research Corporation conçoit, fabrique, commercialise, remet à neuf et entretient des équipements de traitement des semi-conducteurs utilisés dans la fabrication de circuits intégrés. La société propose des systèmes ALTUS pour le dépôt de films conformes pour les applications de métallisation au tungstène, des produits de dépôt électrochimique SABRE pour la transition des interconnexions en cuivre, qui permettent la fabrication de damasquinage du cuivre, et des produits de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) améliorés par plasma VECTOR. Elle propose également les produits de dépôt chimique en phase vapeur par plasma à haute densité SPEED pour le remplissage des espaces et les produits de dépôt par couche atomique Striker pour les solutions de films diélectriques.
Lam Research Corporation Résumé des fondamentaux
Comment les bénéfices et les revenus de Lam Research se comparent-ils à sa capitalisation boursière ?