Resumen de acción A311060
LAT Co.,Ltd. fabrica y vende equipos semiconductores y de visualización. Saber más
| Puntuación del snowflake | |
|---|---|
| Valoración | 0/6 |
| Crecimiento futuro | 0/6 |
| Rendimiento pasado | 0/6 |
| Salud financiera | 0/6 |
| Dividendos | 0/6 |
Competidores de LAT Co.,Ltd.
Historial de precios y rendimiento
| Precios históricos de las acciones | |
|---|---|
| Precio actual de la acción | ₩4,485.00 |
| Máximo en las últimas 52 semanas | ₩6,090.00 |
| Mínimo de 52 semanas | ₩3,000.00 |
| Beta | 0 |
| 1Cambio en 1 mes | -10.12% |
| Variación en 3 meses | -8.47% |
| Cambio de 1 año | 12.13% |
| 3Variación en 3 años | 99.33% |
| Variación en 5 años | 108.60% |
| Variación desde la OPV | 127.09% |
Noticias y actualizaciones recientes
Recent updates
Rentabilidad de los accionistas
| A311060 | KR Semiconductor | Mercado KR | |
|---|---|---|---|
| 7D | -7.9% | -10.0% | -2.8% |
| 1Y | 12.1% | 7.0% | -3.4% |
Rentabilidad vs. Industria: A311060 superó a la industria KR Semiconductor, que obtuvo un rendimiento del 7% el año pasado.
Rentabilidad vs. Mercado: A311060 superó al mercado KR, que obtuvo un rendimiento del -3.4% el año pasado.
Volatilidad de los precios
| A311060 volatility | |
|---|---|
| A311060 Average Weekly Movement | 8.4% |
| Semiconductor Industry Average Movement | 6.7% |
| Market Average Movement | 5.7% |
| 10% most volatile stocks in KR Market | 11.5% |
| 10% least volatile stocks in KR Market | 2.7% |
Precio estable de las acciones: El precio de las acciones de A311060 ha sido volátil en los últimos 3 meses.
Volatilidad a lo largo del tiempo: La volatilidad semanal de A311060(8%) se ha mantenido estable durante el último año, pero sigue siendo superior al 75% de las acciones de KR.
Acerca de la empresa
| Fundada | Empleados | CEO | Página web |
|---|---|---|---|
| 2014 | n/a | Heung-Hwan Kim | www.latplasma.com |
LAT Co.,Ltd. fabrica y vende equipos semiconductores y de visualización. Los productos de la empresa incluyen equipos de deposición en vacío, como sistemas de pulverización catódica por magnetrón, sistemas de pulverización catódica, sistemas de evaporación térmica, sistemas de evaporación térmica y por haz electrónico, sistemas de evaporación por haz electrónico, sistemas de deposición química en fase vapor, sistemas CVD por plasma de acoplamiento inductivo, sistemas CVD mejorados por plasma y sistemas CVD térmicos.
Resumen de fundamentos de LAT Co.,Ltd.
| Estadísticas fundamentales de A311060 | |
|---|---|
| Capitalización bursátil | ₩22.91b |
| Beneficios(TTM) | ₩0 |
| Ingresos (TTM) | n/a |
n/a
Ratio precio-beneficio (PE)n/a
Ratio precio-ventas (PS)¿Está A311060 sobrevalorada?
Ver valor justo y análisis de valoraciónBeneficios e Ingresos
| Cuenta de resultados (TTM) de A311060 | |
|---|---|
| Ingresos | ₩0 |
| Coste de los ingresos | ₩0 |
| Beneficio bruto | ₩0 |
| Otros gastos | ₩0 |
| Beneficios | ₩0 |
Últimos beneficios comunicados
n/a
Próxima fecha de beneficios
n/a
| Beneficios por acción (BPA) | 0 |
| Margen bruto | 0.00% |
| Margen de beneficio neto | 0.00% |
| Ratio deuda/patrimonio | 0.0% |
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